全套电子自动化流量控制(AEFC,Automated Electronic Flow Control)
网络化数据通讯及远程控制系统 (LAN communication)
检测器设计 (Advanced detector design)
全部汉化的键盘和软件操作界面 (Chinese version of keypad and software)
*的电源分配管理分流器 (Patented power supply management)
苛刻的环境测试(高温高湿) (Strict environment test for QA)
精密的程序升温炉膛温度控制 (Precise programmable oven temperature control)
独立加热小柱箱 (Separated columns oven)
*的分析结果重复精度 (High reproducibility of analysis results)
强大的自检及报错功能 (Strong function of self-diagnostic)
可实现序列自动运行 (Sequence Run Available)
各种阀配置满足气体分析 (Comprehensive Valve Configuration for Complicated Analysis)
微气路切割技术实现多位色谱及反吹功能 (Sandwich plate device for two dimension GC and/or back-fluch etc.)
柱温箱
炉膛尺寸:28×30×18 cm
操作温度范围:高于室温5℃~400℃
温度设定精度:1℃
程序升温zui高阶数:7阶
zui高程序升温速度: 120℃/min
zui长一次方法运行时间:999.99min
可运行柱流失补偿(双通道)
进样口
双通道进样口
进样口类型可选:
填充柱进样口(带隔垫吹扫,可接大口径毛细管柱)
毛细管柱分流/不分流进样口)
分流/不分流毛细管柱进样口
高精度电子压力/流量控制
zui高使用温度400°C
柱头压力设定范围:0-100psi
柱头压力控制设定精度:0.01psi
总流量设定范围:
0 —1000 mL /min(氦气)
0 —200mL/min(氮气)
流量设定精度:0.1 mL /min
zui大分流比:1:1000
氢火焰离子化检测器(FID)
高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度450°C
zui小检出限:<2.5皮克碳/秒
动态线性范围:107(+10%)
数据采集频率:zui高100HZ
热导池检测器(TCD)
高精度电子流量/压力控制、
适配于填充柱和毛细管柱、
zui高使用温度300℃、
数据采集频率:zui高100hz、
动态线性范围:105(±10%)、
zui小检出限:<400皮克 丙烷/毫升(氦气)
电子捕获检测器(ECD)
高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度400 °C
隐性阳极(带吹扫)
检测器补偿气类型:5%甲烷/氩气或者氮气
数据采集频率:zui高100HZ
动态线性范围:>5X105
zui小检出限:<0.01mCi 63Ni
氮磷检测器(NPD)
高精度电子流量/压力控制
适配与填充柱和毛细管柱
zui高使用温度450 °C
zui小检出限:<3皮克 碳/秒
动态线性范围:105N,105P
数据采集频率:zui高100HZ
zui小检测限:<0.2pg N/sec,<0.2pgP/sec
选择性:25,000:1 gN/Gc,75,000:1 gP/Gc